華爲近期公開了(le)一個(gè)關于光(guāng)刻方面的(de)專利

這(zhè)個(gè)專利技術描述中，涵蓋極紫外光(guāng)方面的(de)相關技術，也(yě)就是說華爲也(yě)在研究光(guāng)刻機極紫外光(guāng)的(de)新專利，看來(lái)華爲對(duì)光(guāng)刻機領域的(de)攻克一直都在進行中，而這(zhè)次公布的(de)光(guāng)刻技術，充分(fēn)說明(míng)了(le)華爲獲得(de)了(le)階段性的(de)突破，未來(lái)結合其他(tā)企業，我相信屬于我們自己，百分(fēn)百國産化(huà)的(de)光(guāng)刻機也(yě)不會太遠(yuǎn)了(le)
該專利申請于2021年5月(yuè)13日，專利主要講述反射鏡，光(guāng)刻裝置及其控制方法